ویفرهای ایندیوم آنتیمونید (InSb) نوع N نوع P آماده Epi بدون آلایش، آلایش یافته با Te یا Ge، ضخامت 2 اینچ، 3 اینچ، 4 اینچ، ویفرهای ایندیوم آنتیمونید (InSb)
ویژگیها
گزینههای دوپینگ:
۱. دوپینگ نشده:این ویفرها عاری از هرگونه عامل ناخالصی هستند و همین امر آنها را برای کاربردهای تخصصی مانند رشد اپیتاکسیال ایدهآل میکند.
۲. آلاییده شده (نوع N):آلایش تلوریم (Te) معمولاً برای ساخت ویفرهای نوع N استفاده میشود که برای کاربردهایی مانند آشکارسازهای مادون قرمز و الکترونیک پرسرعت ایدهآل هستند.
۳. ژرمانیوم آلاییده (نوع P):آلایش ژرمانیوم (Ge) برای ساخت ویفرهای نوع P استفاده میشود که تحرکپذیری حفره بالایی را برای کاربردهای نیمههادی پیشرفته ارائه میدهد.
گزینههای اندازه:
۱. در قطرهای ۲ اینچ، ۳ اینچ و ۴ اینچ موجود است. این ویفرها نیازهای مختلف فناوری، از تحقیق و توسعه گرفته تا تولید در مقیاس بزرگ، را برآورده میکنند.
۲. تلرانسهای دقیق قطر، ثبات را در بین دستهها تضمین میکنند، با قطرهای ۵۰.۸ ± ۰.۳ میلیمتر (برای ویفرهای ۲ اینچی) و ۷۶.۲ ± ۰.۳ میلیمتر (برای ویفرهای ۳ اینچی).
کنترل ضخامت:
۱. ویفرها با ضخامت ۵۰۰±۵ میکرومتر برای عملکرد بهینه در کاربردهای مختلف در دسترس هستند.
۲. اندازهگیریهای اضافی مانند TTV (تغییرات ضخامت کل)، BOW و Warp به دقت کنترل میشوند تا یکنواختی و کیفیت بالا تضمین شود.
کیفیت سطح:
۱. ویفرها برای بهبود عملکرد نوری و الکتریکی، دارای سطح صیقلی/حکاکی شده هستند.
۲. این سطوح برای رشد اپیتاکسیال ایدهآل هستند و پایهای صاف برای پردازش بیشتر در دستگاههای با کارایی بالا ارائه میدهند.
آماده برای اپی:
۱. ویفرهای InSb آمادهی رشد اپی هستند، به این معنی که برای فرآیندهای رسوب اپیتاکسیال از قبل آمادهسازی شدهاند. این امر آنها را برای کاربردهایی در تولید نیمههادی که در آنها لایههای اپیتاکسیال باید روی ویفر رشد داده شوند، ایدهآل میکند.
کاربردها
۱. آشکارسازهای مادون قرمز:ویفرهای InSb معمولاً در تشخیص مادون قرمز (IR)، به ویژه در محدوده مادون قرمز با طول موج متوسط (MWIR) استفاده میشوند. این ویفرها برای کاربردهای دید در شب، تصویربرداری حرارتی و طیفسنجی مادون قرمز ضروری هستند.
۲. الکترونیک پرسرعت:به دلیل تحرک الکترونی بالای آنها، ویفرهای InSb در دستگاههای الکترونیکی پرسرعت مانند ترانزیستورهای فرکانس بالا، دستگاههای چاه کوانتومی و ترانزیستورهای با تحرک الکترونی بالا (HEMTs) استفاده میشوند.
۳. دستگاههای چاه کوانتومی:شکاف نواری باریک و تحرک الکترونی عالی، ویفرهای InSb را برای استفاده در دستگاههای چاه کوانتومی مناسب میکند. این دستگاهها اجزای کلیدی در لیزرها، آشکارسازها و سایر سیستمهای اپتوالکترونیکی هستند.
۴. دستگاههای اسپینترونیک:InSb همچنین در کاربردهای اسپینترونیک، که در آن از اسپین الکترون برای پردازش اطلاعات استفاده میشود، مورد بررسی قرار گرفته است. کوپلینگ کم اسپین-مدار این ماده، آن را برای این دستگاههای با کارایی بالا ایدهآل میکند.
۵. کاربردهای تابش تراهرتز (THz):دستگاههای مبتنی بر InSb در کاربردهای تابش تراهرتز، از جمله تحقیقات علمی، تصویربرداری و توصیف مواد، استفاده میشوند. آنها فناوریهای پیشرفتهای مانند طیفسنجی تراهرتز و سیستمهای تصویربرداری تراهرتز را امکانپذیر میکنند.
۶. دستگاههای ترموالکتریک:خواص منحصر به فرد InSb آن را به مادهای جذاب برای کاربردهای ترموالکتریک تبدیل میکند، جایی که میتوان از آن برای تبدیل کارآمد گرما به برق، به ویژه در کاربردهای خاص مانند فناوری فضایی یا تولید برق در محیطهای سخت، استفاده کرد.
پارامترهای محصول
پارامتر | ۲ اینچی | ۳ اینچی | ۴ اینچی |
قطر | 50.8±0.3 میلیمتر | ۷۶.۲±۰.۳ میلیمتر | - |
ضخامت | ۵۰۰±۵ میکرومتر | 650±5 میکرومتر | - |
سطح | جلا داده شده/اچ شده | جلا داده شده/اچ شده | جلا داده شده/اچ شده |
نوع دوپینگ | بدون آلاییده، آلاییده با Te (N)، آلاییده با Ge (P) | بدون آلاییده، آلاییده با Te (N)، آلاییده با Ge (P) | بدون آلاییده، آلاییده با Te (N)، آلاییده با Ge (P) |
جهت گیری | (100) | (100) | (100) |
بسته | مجرد | مجرد | مجرد |
آماده برای اپی | بله | بله | بله |
پارامترهای الکتریکی برای Te آلاییده شده (نوع N):
- تحرک: 2000-5000 سانتیمتر مربع بر ولت ثانیه
- مقاومت ویژه: (1-1000) اهم · سانتیمتر
- چگالی نقص (EPD): ≤2000 نقص در سانتیمتر مربع
پارامترهای الکتریکی برای آلاییده شده با ژرمانیوم (نوع P):
- تحرک: ۴۰۰۰-۸۰۰۰ سانتیمتر مربع بر ولت · ثانیه
- مقاومت ویژه: (0.5-5) اهم · سانتیمتر
- چگالی نقص (EPD): ≤2000 نقص در سانتیمتر مربع
نتیجهگیری
ویفرهای ایندیم آنتیمونید (InSb) مادهای ضروری برای طیف وسیعی از کاربردهای با کارایی بالا در زمینههای الکترونیک، اپتوالکترونیک و فناوریهای مادون قرمز هستند. ویفرهای InSb با داشتن تحرک الکترونی عالی، کوپلینگ اسپین-مدار پایین و گزینههای متنوع آلایش (Te برای نوع N، Ge برای نوع P)، برای استفاده در دستگاههایی مانند آشکارسازهای مادون قرمز، ترانزیستورهای پرسرعت، دستگاههای چاه کوانتومی و دستگاههای اسپینترونیک ایدهآل هستند.
این ویفرها در اندازههای مختلف (۲ اینچ، ۳ اینچ و ۴ اینچ) با کنترل دقیق ضخامت و سطوح آماده برای اپیرایت موجود هستند که تضمین میکند نیازهای دقیق ساخت نیمههادیهای مدرن را برآورده میکنند. این ویفرها برای کاربرد در زمینههایی مانند تشخیص IR، الکترونیک پرسرعت و تابش تراهرتز ایدهآل هستند و امکان استفاده از فناوریهای پیشرفته در تحقیقات، صنعت و دفاع را فراهم میکنند.
نمودار تفصیلی



